在光学材料、半导体、液晶显示等高精度制造领域，材料的位相差（相位差）是决定产品光学性能的核心指标，
位相差测量技术通过精准捕捉光在材料中传播的相位变化，量化呈现材料的光学均匀性、应力分布等关键特性，为产品研发、质量管控提供科学依据，成为制造业的计量手段。
传统光学测量方法难以精准捕捉光的相位信息，常通过间接计算推导位相差，误差较大且适用范围有限。现代位相差测量技术基于“光的干涉原理+高精度图像分析”实现突破，主流方法包括偏光干涉法、数字全息干涉法等：偏光干涉法通过让偏振光穿过被测材料，利用检偏器捕捉干涉条纹，通过条纹变形量计算位相差；数字全息干涉法则记录物光与参考光的干涉图像，经算法重构获取完整的相位分布信息，检测精度可达纳米级。
该技术的核心竞争力体现在“精准、全面、高效”三大维度。精准性上，采用高分辨率CCD图像传感器与激光光源，位相差测量精度达0.1nm，可检测材料微米级区域的相位变化；全面性方面，不仅能测量平均位相差，还能生成二维位相差分布图谱，直观呈现材料不同区域的光学特性差异；高效性上，数字式测量系统实现数据采集与分析的自动化，单次测量耗时≤3秒，支持批量样品的快速检测。
在液晶显示行业，位相差测量用于检测液晶面板的位相差膜性能，确保屏幕色彩还原与视角效果；在半导体领域，通过测量硅片的位相差分布，评估晶体生长质量与加工应力，提升芯片良率；在光学镜片制造中，精准测定镜片的位相差，优化镜片光学性能，减少成像畸变；在生物医学领域，利用位相差成像技术观察细胞结构，无需染色即可实现生物样本的无损伤检测。位相差测量技术的应用，推动了各行业光学性能控制从“定性判断”向“定量分析”的转变，为产品品质升级提供核心支撑。
